EVG610光刻机-EVG610/620双面光刻机

EVG610 紫外光刻机

设备咨询：娄经理 1312-297-6482

特点：

     晶圆/基片尺寸从零碎片到200毫米/ 8英寸

      **部和底部对准功能

      高精度对准

      自动楔形补偿序列

      电动的和程序控制的曝光间隙

      支持UV-LED技术

      小化系统占地面积和设施要求

      分步流程指引

      远程技术支持

      多用户概念（用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同语言）

     敏捷的处理和转换重新加工

      台式或独立式带防振花岗岩台面

      附加功能：

         键合对准

         红外对准

         纳米压印光刻（NIL）

关键技术参数：

       **部对准精度：≤ ± 0,5 微米

       底部对准精度：≤ ± 2,0 微米

       红外对准模式：≤ ± 2,0 微米/取决于基片的材料

        接触：硬、软接触，真空

       曝光间隙：1 - 1000 微米

       线宽精度：1微米

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